JB/T 6922—2004 真空蒸發鍍膜設備
Vacuum evaporation coating plant
本標準是對JB/T 6922一1993《真空蒸發鍍膜設備》的修訂
本標準與JB/T 6922-1993相比，主要變化如下:
— 增加了原標準的“4.1工作環境條件”的內容;
一增加了4.3.6, 4.3.7, 4.4.12等條款;
— 糾正了某些錯誤概念，如將原標準的:“4.2.8...在產品說明書規定的參數范圍內......”修訂為 “4 .2. 8...在產品設計要求規定的參數范圍內......’。
本次修訂按GB/T 1.1-2000標準對JB/T 6922-1993的標準格式進行了調整
本標準代替JBfT 6922- 1993
1、范圍
JB/T 6922—2004 真空蒸發鍍膜設備標準規定了真空蒸發鍍膜設備的型式和基本參數、技術要求、試驗方法、檢驗規則及標志、包裝、運輸、貯存等要求。
本標準適用于極限壓力在5x10-4Pa-5 x10 -3Pa范圍的真空蒸發鍍膜設備(以下簡稱設備)
2、規范性引用文件
下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內容)或修訂版均不適用于本標準，然而，鼓勵根據本標準達成協議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準
GB/T191包裝儲運圖示標志(GB/T 191-2000,e qvIS O7 80: 1997)
GB/T 6070 真空法蘭(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1 98 6, V acuum technology-Flangedimensions)
GB/T 11164-1999 真空鍍膜設備通用技術條件
GB/T 13306 標牌
JB/T 1090 J型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 1092 O型真空用橡膠密封圈型式及尺寸
JB/T 7673 真空設備型號編制方法
3、型式與基本參數
3、結構形式
設備主要由鍍膜室、蒸發系統、真空系統、機架、保護裝置及電氣控制裝置組成。
|
